Formation sur le dopage par Implantation Ionique

Cette formation donne un aperçu et familiarisation sur la technique de dopage des semi-conducteurs par l’implantation ionique. Elle s’adresse aux ingénieurs, techniciens et étudiants concernés par l’industrie des semi-conducteurs qui souhaitent acquérir les notions de base de la microélectronique.

Programme de la formation :

1. Formation théorique :

Un cours d’initiation à la technique d’implantation ionique (base d’implantation ionique, la machine,….etc.) sera présenté.

Durée : Demi-journée

2. Formation pratique :

Dans cette partie, des travaux pratiques serons réaliser en la salle blanche couverons les aspect suivants :

• • • Présentation de l’équipement d’implantation
    • Implantation des plaquettes de silicium par les deux types de dopants N et P
    • Mesure de la résistance carrée par la technique quatre pointes.

Durée : Demi-journée