Formation sur les Dépôts CVD et Diffusion

L’objectif de cette formation est de donner à l’utilisateur la possibilité de se familiariser avec l’environnement de la salle blanche, de comprendre l’architecture et le fonctionnement d’un équipement (Four diffusion) et de comprendre le processus de fabrication en microélectronique.

Programme de la formation :

1. Formation théorique :

-  Cours théorique et notions de base sur les techniques de dépôt (atmosphérique et sous vide) et les équipements utilisés (Fours horizontal)
-  Méthodologie d’utilisation des fours à diffusion (mesures de sécurité, HSE)
-  Des exemples des recettes utilisées pour la zone de diffusion

Durée : 2 heures.

2. Formation pratique :

Une initiation sur les pratiques liées à l’hygiène et sécurité (HSE) dans la zone précèdera la formation pratique. Cette dernière inclura des opérations de manipulations pour déférent procédés sur les fours en salle blanche tels que :

      • Diffusion à haute température jusqu’à 1200 °C
      • Recuit à moyenne et haute température de 100°C à 1200°C
      • Dépôt chimique en phase vapeur en basse pression (LPCVD) :
        • Dépôt d’oxyde de silicium
        • Dépôt de Poly-Silicium
        • Dépôt de Nitrure de silicium SiN
      • Oxydation Sèche avec un débit d’oxygène contrôlable
      • Oxydation humide avec des débits d’oxygène et hydrogène contrôlable

Durée : Demi-journée