{"id":7523,"date":"2019-09-17T14:09:22","date_gmt":"2019-09-17T14:09:22","guid":{"rendered":"http:\/\/10.1.5.53\/?page_id=7523"},"modified":"2019-09-25T07:10:56","modified_gmt":"2019-09-25T07:10:56","slug":"formation-sur-les-depots-cvd-et-diffusion","status":"publish","type":"page","link":"https:\/\/www.cdta.dz\/fr\/recherche-et-technologie\/plateformes-technologiques\/plateforme-de-micro-fabrication\/formation-et-prestations\/formation-sur-les-depots-cvd-et-diffusion\/","title":{"rendered":"Formation sur les D\u00e9p\u00f4ts CVD et Diffusion"},"content":{"rendered":"

Formation sur les D\u00e9p\u00f4ts CVD et Diffusion<\/span><\/h1>\n

L\u2019objectif de cette formation est de donner \u00e0 l\u2019utilisateur la possibilit\u00e9 de se familiariser avec l\u2019environnement de la salle blanche, de comprendre l\u2019architecture et le fonctionnement d\u2019un \u00e9quipement (Four diffusion) et de comprendre le processus de fabrication en micro\u00e9lectronique.<\/p>\n

Programme de la formation\u00a0:<\/span><\/h3>\n

1. Formation th\u00e9orique\u00a0:<\/span><\/h3>\n

\"-\"\u00a0 Cours th\u00e9orique et notions de base sur les techniques de d\u00e9p\u00f4t (atmosph\u00e9rique et sous vide) et les \u00e9quipements utilis\u00e9s (Fours horizontal)
\n\"-\"\u00a0 M\u00e9thodologie d\u2019utilisation des fours \u00e0 diffusion (mesures de s\u00e9curit\u00e9, HSE)
\n\"-\"\u00a0 Des exemples des recettes utilis\u00e9es pour la zone de diffusion<\/p>\n

Dur\u00e9e\u00a0:<\/span> 2 heures.<\/p>\n

2. Formation pratique\u00a0:<\/span><\/h3>\n

Une initiation sur les pratiques li\u00e9es \u00e0 l\u2019hygi\u00e8ne et s\u00e9curit\u00e9 (HSE) dans la zone pr\u00e9c\u00e8dera la formation pratique. Cette derni\u00e8re inclura des op\u00e9rations de manipulations pour d\u00e9f\u00e9rent proc\u00e9d\u00e9s sur les fours en salle blanche tels que\u00a0:<\/p>\n

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  • \n
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    • \n
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      • Diffusion \u00e0 haute temp\u00e9rature jusqu\u2019\u00e0 1200 \u00b0C<\/li>\n
      • Recuit \u00e0 moyenne et haute temp\u00e9rature de 100\u00b0C \u00e0 1200\u00b0C<\/li>\n
      • D\u00e9p\u00f4t chimique en phase vapeur en basse pression (LPCVD)\u00a0:\n
          \n
        • D\u00e9p\u00f4t d\u2019oxyde de silicium<\/li>\n
        • D\u00e9p\u00f4t de Poly-Silicium<\/li>\n
        • D\u00e9p\u00f4t de Nitrure de silicium SiN<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n
        • Oxydation S\u00e8che avec un d\u00e9bit d\u2019oxyg\u00e8ne contr\u00f4lable<\/li>\n
        • Oxydation humide avec des d\u00e9bits d\u2019oxyg\u00e8ne et hydrog\u00e8ne contr\u00f4lable<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n<\/ul>\n

          Dur\u00e9e\u00a0:<\/span> Demi-journ\u00e9e<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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