منطقة التآكل الكيميائي و التنظيف تحتوي هذه المنطقة مختلف الطرائق الكيميائية من بينها التآكل الكيميائي و التنظيف. تخص عملية التآكل الكيميائي اكاسيد السلسيوم و منها اكسيد السلسيم SiO2 و نثرات السيليوم. و يستخدم لهذا الغرض محاليل اسيدية قوية منها حمض الفلوريديريك و حمض ثلاثي الفوسفات في حرارة 160° درجة مئوية. تجدر الإشارة بان التآكل الكيميائي يمنح ميزة “الانتقائية”، أي أن الحامض المستعمل يتفاعل مع المادة المراد إزالتها دون سواها. عملية التنظيف و هي عملية جد مهمة من اجل سيرورة كل عملية التصنيع- تستخدم مباشرة قبل بدء أي عملية تصنيع كعملية التأكسد أو الإيداع و غيرها. المواد الكيميائية المستعملة هي محاليل حمضية و قاعدية مخففة بصيغة و معايير محددة. :يصنف العتاد الذي يسمح بإجراء مختلف العمليات الكيميائية كالتالي عتاد التآكل لأكسيد السلسيوم هذا الجهاز مصنوع من فليور البوليفينيليدان، المادة المقاومة للمحاليل الحمضية خاصة حمض الفلور (HF)، هذا الأخير يستعمل من اجل حفر أكسيد السلسيوم معدلا بفليور الامونيوم (NH4F). تصميم هذا العتاد هو عبارة عن احواض تملئ يدويا و تغطس فيه صفائح السيليوم لمدة زمنية محددة، بعدها تشطف بالماء المتدفق من اجل إزالة كل الشوائب و مخلفات العملية الكيميائية. عتاد التآكل لنثرات السلسيوم تصميم هذا الجهاز مطابق لسابقه (أكسيد السلسيوم) غير أن موضع الصفائح التي يتم فيها اجراء عملية التآكل مصنوع من مادة الكوارتز. هذه المادة معروفة بشدة مقاومتها كون العملية الكيميائية تتم في درجة حرارة تبلغ 160° درجة مئوية. عتاد رذاذ الحمض من خلال هذا الجهاز يتم إجراء مختلف عمليات تنظيف، تجريد و نقش الصفائح التي تسبق أو تلي مختلف عمليات التصنيع التي تجرى داخل القاعة البيضاء. العمليات المستعملة هي: البيرانا (H2SO4: H2O2) مقياس تنظيف 1 مقياس تنظيف 2 حمض الفليور مخفف: HF, H2O عتاد رذاذ المذيبات هذا الجهاز المصنوع من الحديد المقاوم للصدأ، صمم من اجل استعمال المذيبات القابلة للاشتعال من اجل إزالة راتنج حساس للضوء،نقش البوليمرات، بوليميدات و المولتات العضوية.
الفرنسية
الإنجليزية
العربية