Formation en Photolithographie

La formation en photolithographie est composée de deux volets théorique et pratique. Elle renseigne sur les différentes étapes en lithographie et les tests d’inspection associés telles que la préparation du substrat, dépôt, étalement et développement de la résine photosensible, insolation au rayonnement UV et développement de la résine photosensible après rayonnement.

Programme de la formation :

1. Formation théorique :

Un cours sous forme de présentation introduit le concept de la photolithographie et décrit toutes les étapes du procédé de photolithographie. Le programme est comme suit :

• • • introduction au concept de la salle blanche et description de la zone de lithographie;
    • principe et types de lithographie;
    • composants de la lithographie;
    • techniques de lithographie et procédé de photolithographie;
    • optique de photolithographie par projection.

Durée : Demi-journée

2. Formation pratique :

La formation pratique s’appuie sur l’utilisation des équipements de photolithographie disponibles en salle blanche pour la réalisation des étapes suivantes :

• • • préparation du substrat du wafer et dépôt du Promoteur d’adhérence;
    • dépôt et étalement de la résine photosensible (spin coating);
    • alignement et exposition du résine photosensible avec UV/I-line 365 μm;
    • développement de la résine photosensible.

Durée : Demi-journée