Zone d’implantation ionique

Un implanteur ionique à courant moyen est utilisé pour introduire des dopants dans une plaquette.

Équipements disponibles dans la zone d’implantation ionique 

Implanteur ionique VARIAN E220

• Espèces : B+(BF3), P+(PH3), As+(AsH3) et Ar.
• Gamme de la dose : de 2.0e12 à 5.0e15 ion/cm2.
• Gamme d’énergie : 15 à 200 KeV.
• Angle d’incidence : standard 7°.
• Diamanter de la plaquette : 150 mm

Prestations possibles dans la zone d’implantation ionique

• Dopage des plaquettes (silicium) avec deux types de dopants : type P et Type N.
• Amorphisation des structures cristallines (création des défauts dans la structure).